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真空雰囲気管状炉
真空雰囲気管状炉は、真空、制御可能な雰囲気、および高温の実験環境を提供し、半導体、ナノテクノロジー、炭素繊維などの分野で使用されます。
先進開放型1200℃真空雰囲気管状炉
1200℃開放型真空雰囲気管状炉CVD装置
1400℃真空雰囲気管状炉
1400℃真空雰囲気管状炉CVD装置
1600℃真空雰囲気管状炉CVD装置
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